[发明专利]无残片射孔设备和方法无效
| 申请号： | 200810182002.1 | 申请日： | 2008-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN101550820A | 公开（公告）日： | 2009-10-07 |
| 发明（设计）人： | 曼纽尔·玛丽亚;杨文波;劳伦斯·A·贝尔曼;斯蒂文·W·亨德森;罗伯特·费伦斯;布林德施·德鲁瓦 | 申请（专利权）人： | 普拉德研究及开发股份有限公司 |
| 主分类号： | E21B43/116 | 分类号： | E21B43/116;E21B43/119 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 英属维尔京*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | 本发明涉及无残片射孔设备和方法。本发明具体涉及可用于油井的设备包括适合在井下引爆的射孔系统。所述射孔系统包括包含合金的部件，所述合金具有负腐蚀电位且设置在油井中时不能够钝化或自保护。所述部件适合随着射孔系统的引爆而分解，从而形成基本不含残片的物质。 | ||
| 搜索关键词： | 残片 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可用于油井的设备，其包括：适合在井下引爆的射孔系统，该射孔系统包括并入具有负腐蚀电位且不能够被钝化的合金的部件，所述部件适合随着所述射孔系统的引爆而分解，从而形成基本不含残片的物质。
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