[发明专利]非易失性半导体存储器件无效

专利信息
申请号: 200810174029.6 申请日: 2008-11-12
公开(公告)号: CN101436606A 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 木下胜治;寺尾元康;松冈秀行;屉子佳孝;木村嘉伸;岛明生;田井光春;高浦则克 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;G11C16/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 王茂华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种非易失性半导体存储器件。在相变存储器等中,存在如下问题:用薄膜形成记录材料和选择元件双方时,因重写工作等的热而使与记录材料层相邻的层的原子扩散到记录材料层,重写特性发生变化。为了解决上述问题,本发明在非易失性记录材料层(224)与选择元件(220、221)之间具有膜厚为5nm~200nm的半导体层(222)。由此,可得到大容量且重写条件稳定的非易失性存储器。
搜索关键词: 非易失性 半导体 存储 器件
【主权项】:
1. 一种非易失性半导体存储器件,其特征在于,包括:第一电极;第二电极;形成在上述第一电极和上述第二电极之间的非易失性记录材料层和选择元件;以及形成在上述非易失性记录材料层和上述选择元件之间的、包含上述非易失性记录材料层所包含的元素的半导体层。
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