[发明专利]前体组合物和方法有效
| 申请号： | 200810173784.2 | 申请日： | 2008-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN101440477A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | D·V·谢奈-卡特哈特;S·J·曼兹克;Q·M·王 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C23C16/44 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了包含含胺基基团的气相沉积前体和稳定添加剂的组合物。和含胺基基团的气相沉积前体自身相比，该组合物具有改进的热稳定性和增强的挥发性。该组合物可用于薄膜的沉积，例如通过原子层沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 组合 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于薄膜的气相沉积的组合物，包括含胺基基团的气相沉积前体和能够与所述金属或准金属共享电子的稳定添加剂化合物，该前体包含选自过渡金属、磷、锑和砷的金属或准金属，其中稳定添加剂化合物是以基于所述气相沉积前体的0.01到3摩尔当量的量存在的。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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