[发明专利]清洁片、具有清洁功能的承载元件和基片处理设备的清洁方法

摘要

本发明涉及清洁片、具有清洁功能的承载元件和基片处理设备的清洁方法。包括清洁层和层压于该清洁层上的可剥离的保护膜的清洁片，其中当保护膜被从清洁层剥离时，根据飞行时间二次离子质谱法，在阳离子的情况下相对于C₂H₃⁺或在阴离子的情况下相对于O^-，在清洁层中碎片离子CH₃Si⁺，C₃H₉Si⁺，C₅H₁₅Si₂O⁺，C₅H₁₅Si₃O₃⁺，C₇H₂₁Si₃O₂⁺，CH₃SiO^-，CH₃SiO₂^-和Si⁺的相对强度为0.1或更少。

主权项

1、具有清洁功能的承载元件，包括承载元件和设置于承载元件至少一面上的清洁层，其中当在50℃的温度下将承载元件置于真空室中时，真空室的真空度被从3×10-10托暂时降低，在将承载元件置于真空室后真空室的真空度回升到1×10-9托所需的时间为100分钟或更少。