[发明专利]一种具有溶剂选择性可逆吸附的配位聚合物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810153105.5 申请日: 2008-11-17
公开(公告)号: CN101406826A 公开(公告)日: 2009-04-15
发明(设计)人: 卜显和;常泽 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: B01J20/22 分类号: B01J20/22;C07F3/06
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 代理人: 侯 力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种具有溶剂选择性可逆吸附的配位聚合物,其组成用化学式表示为[Zn2(L)(4,4′-bipy)(DMF)]·DMF,属单斜晶系,Zn离子为六配位,形成具有孔洞的三维网络结构配位聚合物,对应于每一个Zn离子,在孔洞中均有一个游离的DMF分子;其制备方法是:将2,3,6,7-蒽四酸溶于60~100℃的DMF中制成溶液,加入Zn(NO3)2·6H2O和4,4′-联吡啶,加热反应,过滤、静置后,收集析出的晶体并洗涤,干燥后即可。本发明的优点是:所述配位聚合物在浸入CH3OH等溶剂中后,对DMF分子具有溶剂选择性可逆吸附,可作为DMF分子探针应用;该制备方法简单易行,时间短且能耗低。
搜索关键词: 一种 具有 溶剂 选择性 可逆 吸附 配位聚合 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有溶剂选择性可逆吸附的配位聚合物,其特征在于:其组成用化学式表示为[Zn2(L)(4,4’-bipy)(DMF)]·DMF,式中L为2,3,6,7-蒽四酸、4,4′-bipy为4,4′-联吡啶、DMF为N,N-二甲基甲酰胺;所述配位聚合物的晶体属单斜晶系,晶胞参数为:α=γ=90.00°,β=111.06(3)°;Zn离子为六配位,分别与两个L、一个4,4′-联吡啶和一个N,N-二甲基甲酰胺分子配位,形成了一个具有孔洞的三维网络结构配位聚合物;对应于每一个Zn离子,在孔洞中均有一个游离的N,N-二甲基甲酰胺分子。
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