[发明专利]蚀刻组合物无效
| 申请号： | 200810148933.X | 申请日： | 2008-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101392376A | 公开（公告）日： | 2009-03-25 |
| 发明（设计）人： | 西嶋佳孝;安江秀国;山边崇史;向喜广;村田英夫 | 申请（专利权）人： | 长瀬化成株式会社;日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/34 | 分类号： | C23F1/34 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种蚀刻组合物，该组合物在蚀刻含有Cu或Cu合金和Mo或Mo合金的层积金属层时，能够不发生侧蚀而得到具有令人满意的锥角的蚀刻截面形状，而这在以往的技术中是难以实现的。作为本发明的组合物的必要成分，含有选自由水溶液为碱性的磷酸盐和水溶液为碱性的羧酸盐组成的组中的至少一种盐、过氧化氢和水，所述蚀刻组合物用于同时蚀刻2层以上层积金属层的Cu或Cu合金以及Mo或Mo合金，所述2层以上层积金属层是由1层或2层以上Cu或Cu合金以及1层或2层以上Mo或Mo合金形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
1. 一种蚀刻组合物，该组合物含有盐、过氧化氢和水，所述盐、过氧化氢和水为该组合物的必要成分，所述盐为选自由水溶液为碱性的磷酸盐和水溶液为碱性的羧酸盐组成的组中的至少一种盐，所述蚀刻组合物用于同时蚀刻2层以上层积金属层的铜或铜合金以及钼或钼合金，所述2层以上层积金属层是由1层或2层以上铜或铜合金以及1层或2层以上钼或钼合金形成的。
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