[发明专利]半导体器件及其制造方法有效
| 申请号: | 200810145974.3 | 申请日: | 2006-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN101335276A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
| 发明(设计)人: | 秋元健吾;本田达也;曾根宽人 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L29/43;H01L29/24;H01L27/32;H01L21/336;H01L21/20;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李娜;王忠忠 |
| 地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明的目的在于通过使用以氧化锌为典型的氧化物半导体膜形成薄膜晶体管,以低成本提供一种半导体器件及其制造方法,而不使制造工序复杂化。本发明的半导体器件之一,在衬底上形成栅极,覆盖栅极地形成栅极绝缘膜,在栅极绝缘膜上形成氧化物半导体膜,并且在氧化物半导体膜上形成第一导电膜和第二导电膜,其中氧化物半导体膜在沟道形成区域中至少包括结晶化了的区域。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种有源矩阵显示装置,包括:包括具有多栅极结构的薄膜晶体管的像素部分,所述薄膜晶体管包括:衬底之上的第一栅电极和第二栅电极,其中第一栅电极和第二栅电极彼此连接;第一栅电极和第二栅电极之上的绝缘膜;第一栅电极和第二栅电极之上的氧化物半导体膜,所述绝缘膜夹在第一栅电极和第二栅电极与氧化物半导体膜之间;源电极和漏电极,形成于氧化物半导体膜之上;以及电连接到源电极和漏电极中的一个的像素电极;其中源电极和漏电极中的每个包括形成于氧化物半导体膜上的钛膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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