[发明专利]步进排列式干涉微影方法与系统有效
| 申请号： | 200810130790.X | 申请日： | 2008-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101634810A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 颜家钰;张所鋐;陈正宏;陈联圣 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁 挥;祁建国 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种步进排列式干涉微影方法，其主要是在干涉微影前先对干涉光束相较于移动承载偏移误差进行量测，以减低后来利用步进式曝光拼接纳米微结构图案时相邻的图案间的位移偏差。此外，本发明更提供一步进排列式干涉微影系统，于步进控制移动的过程中补偿干涉光束曝光时所造成的误差，达成在二维平面上大面积的步进式的精密对位，并且通过多次曝光将微结构精确接合，以产生出大面积的周期性结构。 | ||
| 搜索关键词： | 步进 排列 干涉 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种步进排列式干涉微影方法，其特征在于，包括有下列步骤：(a)提供一承载装置，其可于一第一轴向以及一第二轴向上进行位移运动以及一旋转运动；(b)提供一干涉光束并检测该干涉光束相较于该位移运动的一偏移误差；(c)使该干涉光束照射至该承载装置上的一工件表面，以于该工件表面形成一特定干涉图案区块；(d)以步进方式根据该偏移误差进行一位置调整运动，以调整下一次曝光位置；以及(e)重复该步骤(c)至(d)多次，在该工件表面上拼接形成有一大面积干涉图案。
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