[发明专利]用于光刻机的浸没液体回收减振控制装置

摘要

本发明公开了一种用于光刻机的浸没液体回收减振控制装置。浸没液体回收减振控制装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置，由上端盖、内腔体和下端盖组成。采用双层回收、外部施加单层气体密封，并在内外层回收之间设置隔离槽，也使得液体和气体的大部分各自由内层和外层实施回收，实现气液初步分离。在气液进入回收腔后实施气液二次分离，气体和液体分别通过内外气体回收腔以及液体回收腔实施回收，由此缩短气液二相流的存在周期，降低了二相流动与相变过程导致的气泡、振动及对曝光流场的冲击。

主权项

1.一种用于光刻机的浸没液体回收减振控制装置，是在浸没光刻系统中投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的浸没液体回收减振控制装置(2)；其特征在于所述的浸没液体回收减振控制装置(2)：包括上端盖(2A)、内腔体(2B)和下端盖(2C)，其中：1)上端盖(2A)：开有提供注液腔(4C)、内层气体回收腔(5C)、液体回收腔(6B)、外层气体回收腔(7C)及气体密封腔(10B)的对外连接通道管路；2)内腔体(2B)：中心开有通孔的内腔体(2B)由中心向外依次开有环形柱状腔体：包括1～4个中心对称的注液腔(4C)，1～4个中心对称的内层气体回收腔(5C)、1～4个中心对称的液体回收腔(6B)、1～4个中心对称的外层气体回收腔(7C)、气体密封腔(10B)，各腔体垂直衬底(3)；处在内层气体回收腔(5C)和外层气体回收腔(7C)之间的内腔体(2B)下表面，比内腔体(2B)其它部分下表面距离衬底(3)高0.5～5mm；3)下端盖(2C)：在中心开有通孔的下端盖(2C)接近衬底(3)的部分，由中心向外依次开有：注液排孔(4A)及内层回收排孔(5A)、隔离槽(9)、外层回收排孔(7A)及气密封排孔(10A)；除隔离槽(9)为环形连续腔体外，其余均为环形排孔阵列；在下端盖(2C)远离衬底(3)的部分，垂直于衬底(3)由中心向外依次开有环形柱状腔体，包括在注液排孔(4A)上方开有注液缓冲腔(4B)，在内层回收排孔(5A)上方开有内层回收缓冲腔(5B)，在外层回收排孔(7A)上方开有外层回收缓冲腔(7B)，在气密封排孔(10A)上方开有气体密封缓冲腔(10B)；注液缓冲腔(4B)、内层回收缓冲腔(5B)、外层回收缓冲腔(7B)和气体密封缓冲腔(10B)垂直向上分别与内腔体(2B)的注液腔(4C)、内层气体回收腔(5C)、外层气体回收腔(7C)、气体密封腔(10B)相连通。