[发明专利]磁记录介质及其制造方法无效
| 申请号： | 200810109058.4 | 申请日： | 2008-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN101312047A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 樱井正敏;朝仓诚 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B5/64 | 分类号： | G11B5/64;G11B5/66;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;许向彤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁记录介质包括：记录区，其中形成与伺服信号和记录磁道相对应的凸起，并包含晶体磁性层(53)；以及非记录区，其中包含在所述记录区之间的凹陷的底部所留下非晶损伤层(55)。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，其特征在于包括：多个记录区，其中形成与伺服信号和记录磁道相对应的凸起，并包含晶体磁性层(53)；以及多个非记录区，其中包含保留在各所述记录区之间的凹陷的底部的非晶损伤层(55)。
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