[发明专利]用于辐射成像系统的紧凑型校正与准直装置有效
| 申请号： | 200810105429.1 | 申请日： | 2008-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN101571496A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 刘耀红;邓艳丽;唐华平;曹艳峰;陈玉梅;闫忻水;贾玮;刘晋升 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;A61B6/03 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王庆海;王小衡 |
| 地址： | 100084北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及了用于辐射成像系统的紧凑型校正与准直装置，其包括：准直组件；校正组件，由多个可分离的小校正块顺序排列组成；操纵装置，其处于校正组件的外侧，用于控制各个校正块的移动；其中准直组件和校正组件之间保持一定间隔以形成直线窄缝，当该校正与准直装置执行准直功能时，辐射成像系统发射的射线通过该直线窄缝以被准直；当该校正与准直装置执行校正功能时，操纵装置开始工作，顺序推动各小校正块分别进入窄缝与准直块接触，形成对射线的不同厚度的阻挡，由此得到不同的阻挡厚度以及相对应的射线强度关系。与现有校正与准直装置相比，体积小、重量轻，可以实现多种材质和高精度的校正，有利于提高辐射成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 辐射 成像 系统 紧凑型 校正 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于辐射成像系统的校正与准直装置，包括：准直组件；校正组件，由多个可分离的小校正块顺序排列组成；操纵装置，其处于校正组件的外侧，用于控制各个校正块的移动；其中准直组件和校正组件之间保持一定间隔以形成直线窄缝，当该校正与准直装置执行准直功能时，辐射成像系统发射的射线通过该直线窄缝以被准直；当该校正与准直装置执行校正功能时，操纵装置开始工作，顺序推动各小校正块分别进入窄缝与准直块接触，形成对射线的不同厚度的阻挡，由此得到不同的阻挡厚度以及相对应的射线强度关系。
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