[发明专利]一种低电压液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法无效
| 申请号： | 200810103011.7 | 申请日： | 2008-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101381882A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 杨文胜;王毅;陈晨 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C25D9/08 | 分类号： | C25D9/08 |
| 代理公司： | 北京华谊知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘月娥 |
| 地址： | 100029北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种低电压液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法，属于类金刚石薄膜制备技术领域。本发明方法以氧化铟锡导电玻璃为阴极，铂片为阳极，甲酰胺为电解液，在常温条件下，通过在阴阳两电极之间施加3～30V的直流电压，可在氧化铟锡导电玻璃阴极上沉积出类金刚石薄膜。该方法具有设备简单、能耗低、沉积速率快及成膜均一性好等优点，易于实现工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电压 液相电 沉积 制备 金刚石 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
1、一种低电压液相电沉积制备类金刚石薄膜的方法，其特征在于，工艺步骤为：以预先清洗干净的氧化铟锡导电玻璃为阴极，铂片电极为阳极，甲酰胺为电解液，在10～40℃条件下，在阴阳两电极之间施加3～30V的直流电压1～30分钟，在氧化铟锡导电玻璃阴极上沉积出类金刚石薄膜。
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