[发明专利]微细构造体及其制造方法无效
| 申请号： | 200810088789.5 | 申请日： | 2008-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN101302639A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 都丸雄一;李静波 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C25D11/02 | 分类号： | C25D11/02;C25D11/04;B82B3/00;B82B1/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陆锦华;谢丽娜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种微细构造体及其制造方法，该方法能简单地制造具备阳极氧化物体的微细构造体，阳极氧化物体具有多个微细孔，微细孔具有良好的贯通性，贯通至导电体。该方法是，准备被阳极氧化金属体(10)，对被阳极氧化金属体(10)进行阳极氧化，直到中途，从而形成具有在被阳极氧化金属体(10)的开始阳极氧化的表面(10s)上开口的多个有底微细孔(12)的阳极氧化部(11)和非阳极氧化部(13)，对位于多个有底微细孔(12)的底面和非阳极氧化部(13)之间的阳极氧化部(14b)进行干蚀刻，直到非阳极氧化部(13)，从而将其除去。 | ||
| 搜索关键词： | 微细 构造 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微细构造体的制造方法，其特征在于，准备被阳极氧化金属体，对该被阳极氧化金属体进行阳极氧化，直到中途，从而形成具有在被阳极氧化金属体的开始阳极氧化的表面上开口的多个有底微细孔的阳极氧化部和非阳极氧化部，对位于上述多个有底微细孔的底面和上述非阳极氧化部之间的上述阳极氧化部进行干蚀刻，直到上述非阳极氧化部，从而将其除去。
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