[发明专利]一种与射频聚焦加热装置配套的电磁屏蔽装置有效
| 申请号： | 200810080061.8 | 申请日： | 2008-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101431884A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 马嘉惠 | 申请（专利权）人： | 马嘉惠 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;D02J13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 050035河北省石*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明是一种与射频聚焦加热装置配套的电磁屏蔽装置。以保证设备连续稳定运转、提到产品质量和稳定，减低能耗。采用的技术方案是加装电磁屏蔽装置，由接地的优良的导磁或导电材料制成，该装置分别安装在射频聚焦加热装置的电场强辐射区和射频聚焦装置的两端磁场强辐射区，与射频聚焦加热装置的左、右同轴共轭耦合腔和石英管热反应器匹配定位形成电磁屏蔽装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射频 聚焦 加热 装置 配套 电磁 屏蔽 | ||
【主权项】：
1. 一种与射频聚焦加热装置配套的电磁屏蔽装置，其特征在于：电磁屏蔽装置由接地的优良的导磁或导电材料制成，该装置分别安装在射频聚焦加热装置的电场强辐射区(5)和射频聚焦装置的两端磁场强辐射区(4A，4B)，与射频聚焦加热装置的左、右同轴共轭耦合腔(8、9)和石英管热反应器(6)匹配定位形成电磁屏蔽装置。
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