[发明专利]组份可回收式集成电路清洗液无效
| 申请号： | 200810069491.X | 申请日： | 2008-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101246316A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 夏长风 | 申请（专利权）人： | 夏长风 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;C11D7/60 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 401147重庆市*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于集成电路制造中的清洗液，其包括有机溶液、pH调节剂、氟化物、金属表面防腐剂、表面抑制剂和去离子水。传统的清洗液在使用后，必须加上燃料油用焚烧法去除。本发明提供的清洗液可回收再利用其中的部分组份，如：有机溶剂。从而具有以下优点：(1)减少焚烧废弃清洗液所造成的环境污染；(2)可回收利用其中的有机溶剂；(3)降低集成电路的制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 可回收 集成电路 清洗 | ||
【主权项】：
1、一种集成电路制造中的清洗溶液，其特征具有下述组分：有机溶液、pH调节剂、氟化物、金属表面防腐剂、表面抑制剂和去离子水。
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