[发明专利]一种印制电路蚀刻液无效

专利信息
申请号: 200810045291.0 申请日: 2008-01-29
公开(公告)号: CN101225520A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 何为;周国云;龙发明;何波;王守绪;袁正希;胡可;关健 申请(专利权)人: 电子科技大学;珠海元盛电子科技股份有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610054四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于印制电路板制造技术领域。本发明提供了一种经济,实用,快速、高效和易于再生的印制电路蚀刻液。该蚀刻液的配方为:HNO3(5%~15%)、H2SO4(8%~20%)、Na2SO4(1%~6%)、添加剂0.01~0.2%,其中添加剂是含有如下一种或一种以上表面活性剂的复配剂:C10~C12脂肪醇聚氧乙烯醚磺基琥珀酸半酯二钠盐、脂肪醇聚氧丙烯聚氧乙烯醚、聚氧乙烯(20)失水三梨醇单月桂酸酯、烷基聚氧乙烯醚硫酸酯铵盐或钠盐、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸酯铵盐或钠盐、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚。采用本发明制造出印制电路侧蚀非常小,且蚀刻液再生容易,能较长时间的循环使用,废液处理容易,对环境的污染小。
搜索关键词: 一种 印制电路 蚀刻
【主权项】:
1.一种印制电路蚀刻液,由H2O、HNO3、H2SO4、Na2SO4和添加剂组成,各组分的质量百分比为:HNO35%~15%、H2SO48%~20%、Na2SO41%~6%、添加剂0.01~0.2%,其余为H2O;其中添加剂是含有如下一种或一种以上表面活性剂的复配剂:C10~C12脂肪醇聚氧乙烯醚磺基琥珀酸半酯二钠盐、脂肪醇聚氧丙烯聚氧乙烯醚、聚氧乙烯(20)失水三梨醇单月桂酸酯、烷基聚氧乙烯醚硫酸酯铵盐或钠盐、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸酯铵盐或钠盐、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚。
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