[发明专利]一种GexC1-x/DLC增透保护膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200810045241.2 | 申请日： | 2008-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN101464529A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 黄宁康;刘金蓉;王立无;姜辉 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C23C14/35;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610064四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种GexC1-x/DLC增透膜及其制备方法，该膜为双层膜。第一层(2)为GexC1-x，其折射率从基体值变化至2.1，第二层(3)为DLC膜，其折射率为2.1变化至1.7。涂覆后，提高了光学元件在0.7-14μm内的透过率及抗磨耐蚀性能。采用双靶磁控溅射沉积GexC1-x/DLC时，改变碳氢化物比例或偏压来控制DLC膜内的sp3含量；改变辅助气体流量比、双靶溅射电流等参数控制GexC1-x及DLC膜的折射率。采用双离子束溅射沉积GexC1-x/DLC时，改变双离子束束流强度比例控制GexC1-x膜的折射率；改变单离子束束流强度和碳化物气体流量比控制DLC膜的折射率；改变碳化物气体种类或改变偏压控制DLC膜内的sp3含量。通过沉积时间来控制GexC1-x/DLC膜的厚度。本发明方法简单，各制备工艺参数相互牵制性小，制备出的膜增透效果及抗磨耐蚀性能优良。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ge sub dlc 保护膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种GexC1-x/DLC增透保护膜，其特征是所述的GexC1-x/DLC增透保护膜成膜于光学元件的入射面或/和出射面上，GexC1-x/DLC增透保护膜具有双层结构。
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