[发明专利]一种有机电致发光器件的新型掩膜体系及制作方法有效
| 申请号： | 200810045233.8 | 申请日： | 2008-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101220452A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 于军胜;张磊;孙力;王玉林;钟建;蒋泉;蒋亚东 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
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| 地址： | 610054四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种有机电致发光器件的掩膜体系，其特征在于，包括活动部分和固定部分，所述固定部分为单片小掩膜板，固定设置在基片托架上方和器件衬底下方，它与器件衬底在有机工作层的制备过程中始终固定在基片托架上，掩膜图案与金属电极的待蒸镀区域图形一致；所述活动部分为在蒸镀有机薄膜的过程中导入的大掩膜板，所述大掩膜板与所述小掩膜板的公共暴露部分对应于有机层的蒸镀区域。该体系简化了有机电致发光器件的制备工艺，通过尽量少的不同的掩膜组合实现器件制备图案的多样性，解决了多次掩膜板切换所引起的有机层发光区域和电极区的对位和对准性问题，降低了器件制作的成本，提高了器件良品率和生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 有机 电致发光 器件 新型 体系 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种有机电致发光器件的掩膜体系，其特征在于，包括活动部分和固定部分，所述固定部分为单片小掩膜板，固定设置在基片托架上方和器件衬底下方，它与器件衬底在有机工作层的制备过程中始终固定在基片托架上，掩膜图案与金属电极的待蒸镀区域图形一致；所述活动部分为在蒸镀有机薄膜的过程中导入的大掩膜板，所述大掩膜板与所述小掩膜板的公共暴露部分对应于有机层的蒸镀区域。
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