[发明专利]复合导电膜及使用该膜的触摸屏无效

专利信息
申请号: 200810044402.6 申请日: 2008-05-15
公开(公告)号: CN101581800A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 甘国工 申请(专利权)人: 甘国工
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;B32B7/02;B32B7/12;B32B33/00;B32B9/00;G06F3/041
代理公司: 成都立信专利事务所有限公司 代理人: 江晓萍
地址: 610100四川省成都市龙泉驿区经济*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种复合导电膜,包括具有上表面及下表面的第一柔性透光基层L1和具有上表面及下表面的第二柔性透光基层L2,位于第一柔性透光基层L1和第二柔性透光基层L2之间的弹性粘接剂层,在第二柔性透光基层L2的下表面依次沉积有由高折射率无机介质膜和低折射率无机介质膜依次交错排列而形成的至少两层无机介质膜的无机介质膜系及位于该膜系最外层的透明导电膜层,透明导电膜层的厚度满足方块电阻需要值的厚度3~100mm,至少两层的由高折射率和低折射率无机介质构成的膜系和透明导电膜层都采用真空磁控溅射的方法沉积从而形成整体透过率达到80%以上的光学干涉膜系,本发明还提供了使用该复合导电膜的触摸屏。
搜索关键词: 复合 导电 使用 触摸屏
【主权项】:
1、复合导电膜,包括具有上表面及下表面的第一柔性透光基层L1,具有上表面及下表面的第二柔性透光基层L2,第一柔性透光基层L1的下表面和第二柔性透光基层L2的上表面间有将二者粘接为一体的弹性粘接剂层,在第二柔性透光基层L2的下表面依次沉积有由高折射率无机介质膜、低折射率无机介质依次交错排列形成的有至少两层无机介质膜的无机介质膜系及位于该无机介质膜系最外层的透明导电膜层,其特征在于透明导电膜层的厚度为满足方块电阻100~1000Ω/□需要的厚度3~100nm,至少两层的由高折射率无机介质膜和低折射率无机介质膜构成的无机介质膜系和透明导电膜层都采用真空磁控溅射的方法沉积、从而形成在380nm~780nm光波长范围内整体透过率达到80%以上的光学干涉膜系。
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