[发明专利]胺类化合物的应用以及一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810042567.X | 申请日： | 2008-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101665661A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 陈国栋;姚颖;宋伟红 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种如式1所示的胺类化合物在制备用于抛光氧化物介电质的抛光液中的应用；其中R1、R2和R3分别为氢、(CH2)nCOOR4或(CH2)nCONH2，但不同时为氢；n为0或1；R4为氢、碱金属离子、铵离子或碳原子数1～4的烷基。本发明还提供了一种化学机械抛光液，其含有如式1所示的胺类化合物中的一种或多种、二氧化硅、表面活性剂和水。本发明的抛光液能够提升氧化物介电质的抛光速率，同时抛光液中磨粒含量较低。 | ||
| 搜索关键词： | 化合物 应用 以及 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1、一种如式1所示的胺类化合物在制备用于抛光氧化物介电质的抛光液中的应用；![]()
式1其中，R1、R2和R3分别为氢、(CH2)nCOOR4或(CH2)nCONH2，但不同时为氢；n为0或1；R4为氢、碱金属离子、铵离子或碳原子数1～4的烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子科技（上海）有限公司，未经安集微电子科技（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810042567.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：菜单显示装置和菜单显示方法
- 下一篇：具有纳米颗粒的上套皮罗拉和纤维引导皮圈
