[发明专利]双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统有效
| 申请号： | 200810040349.2 | 申请日： | 2008-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN101329513A | 公开（公告）日： | 2008-12-24 |
| 发明（设计）人： | 陈飞彪;李志丹;潘炼东;尹作海 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种双扫描式硅片调焦调平测量装置及系统，应用于投影光刻机的调平调焦系统中，所述双扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，所述探测单元包括第一、第二探测子单元，以及电信号处理单元，所述成像单元出射的光束分别经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元进行相敏解调。本发明的双扫描式硅片调焦调平测量装置具有较大的有效线性化区域，其光学设计难度小，结构相对紧凑。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 硅片 调焦 测量 装置 系统 | ||
【主权项】：
1、一种双扫描式硅片调焦调平测量装置，应用于投影光刻机的调焦调平系统中，所述双扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，其特征在于：所述探测单元包括第一、第二探测子单元，以及电信号处理单元；所述成像单元出射的光束分别经由第一和第二探测子单元进入电信号处理单元进行相敏解调。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810040349.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
