[发明专利]一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统有效
| 申请号： | 200810039958.6 | 申请日： | 2008-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN101308332A | 公开（公告）日： | 2008-11-19 |
| 发明（设计）人： | 江潮;罗闻;徐文 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种控制光刻曝光剂量的方法及其系统。本发明所提供的控制光刻曝光剂量的方法是利用多个脉冲的平均波动性低于曝光精度要求的特性，通过选择曝光的激光脉冲的个数来控制光刻曝光剂量精度，并进一步决定衰减率，最后进行曝光。使用该方法的控制光刻曝光剂量的系统主要包括激光器、衰减器、控制器以及能量传感器，系统具有结构相对简单的优点，并且结合其控制光刻曝光剂量的方法使用能大大提高光刻曝光剂量精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 控制 光刻 曝光 剂量 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于控制光刻曝光剂量的方法，其特征在于，包括步骤：A、获取激光器的曝光剂量精度与脉冲个数的对照关系表；B、根据光刻曝光剂量精度要求的参数，由对照关系表对应查找相应的第一脉冲个数；C、根据未衰减的单个脉冲剂量，以及实际要求曝光剂量，计算得到第二脉冲个数；D、第二脉冲个数与第一脉冲个数进行比较，如果第一脉冲个数小于或等于第二脉冲个数，激光器发出的脉冲数量采用第二脉冲个数；如果第一脉冲个数大于第二脉冲个数，激光器发出的脉冲数量采用第一脉冲个数，通过具有一定衰减率的衰减器衰减脉冲能量，使衰减后的单个脉冲的能量与第一脉冲个数的乘积满足实际要求曝光剂量的要求。
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