[发明专利]一种光刻胶清洗剂有效
| 申请号： | 200810039757.6 | 申请日： | 2008-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN101614971A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 史永涛;彭洪修;曹惠英 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂，其含有季铵氢氧化物、水、芳基醇、二甲基亚砜和聚丙烯酸类缓蚀剂。本发明的光刻胶清洗剂可以除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶(尤其是厚膜负性光刻胶)和其它刻蚀残留物，同时对铝和铜等金属以及二氧化硅等非金属材料具有极弱的腐蚀性，环境友好且可在较大的温度范围内使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 洗剂 | ||
【主权项】：
1、一种光刻胶清洗剂，其特征在于：其含有季铵氢氧化物、水、芳基醇、二甲基亚砜和聚丙烯酸类缓蚀剂。
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