[发明专利]用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记有效
申请号: | 200810039465.2 | 申请日: | 2008-06-24 |
公开(公告)号: | CN101303533A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 李运锋;韦学志;徐荣伟;宋海军 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记。利用所设计的特定对准标记结构,通过对准成像系统,获得对准标记的图像信号;然后通过傅立叶变换,将对准标记的图像信号转换到频域空间,以提取标记的不同级次频率的信息,并由傅立叶逆变换,获得相应的各级次频率的对准信号,这些信号包含对准标记的内在结构与相位信息;最后利用原始信号或获得的低级次频率对准信号做粗对准,利用高级次频率对准信号做精对准,提高对准的分辨率和对准精度。此外,本发明还提供了两种类型的增强型对准标记,增强特定级次频率成分的信号强度,提高该级次信号的信噪比,降低对准误差。 | ||
搜索关键词: | 用于 光刻 设备 对准 系统 方法 增强 标记 | ||
【主权项】:
1、一种用于光刻设备的对准系统,其特征在于,包括:光源模块;对准标记;照明与成像单元;图像采集单元;图像处理单元;对准操作单元;和位置采集与运动控制单元;所述对准标记由线宽和槽宽相等的刻蚀线条组成;所述图像处理单元对标记成像进行傅立叶变换,并提取出不同频率级次的对准信号;所述对准操作单元利用原始信号或获得的某一特定级次的对准信号确定粗对准位置,利用获得的比所述特定级次更高级次的对准信号确定精对准位置。
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