[发明专利]光刻设备的探测装置、探测方法及制造方法有效
| 申请号： | 200810038391.0 | 申请日： | 2008-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101286011A | 公开（公告）日： | 2008-10-15 |
| 发明（设计）人： | 李焕炀;宋海军;严天宏 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了光刻设备的探测装置、探测方法及制造方法，所述探测装置包括空间调制图案板和信号调理电路板，空间调制图案板的正面具有透射和反射调制图案，背面具有容设信号调理电路板的电路板安装穴，信号调理电路板上设有光学元件模块，该光学元件模块按光线传播方向和光电转换的次序依次包括：光学支架，其中安装有可见光光学过滤器；光热隔离板；光辐射探测器支架，其中安装有光辐射探测器阵列。本发明的探测装置与制造方法实现该装置探测紫外光或深紫外光或极紫外光的抗干扰性，提高了探测的精度性能；降低了光学部件安装穴的制造难度，同时不降低装配精度；提高了该装置在变化温度下的结构稳定性和热稳定性，同时保证该探测装置的探测精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 探测 装置 方法 制造 | ||
【主权项】：
1、一种光刻设备的探测装置，置于光刻设备中工件基准高度处，该光刻设备具有投影系统，用于将带图案的辐射光束投射到工件目标部分以形成辐射空间图案，该探测装置被用于调制辐射空间图案并探测该图案的中心位置，其特征在于：所述探测装置包括空间调制图案板和信号调理电路板，所述空间调制图案板的正面具有透射调制图案和反射调制图案，背面具有容设所述信号调理电路板的电路板安装穴；所述信号调理电路板上设有光学元件模块，所述光学元件模块包括：光学支架，其中安装有可见光光学过滤器；光热隔离板；光辐射探测器支架，其中安装有光辐射探测器阵列。
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