[发明专利]一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法有效
| 申请号： | 200810038123.9 | 申请日： | 2008-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN101299132A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 杜聚有;徐荣伟;戈亚萍 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻设备对准系统的对准标记及其使用方法。采用包含至少三组不同周期的光栅的对准标记，对准过程中只用三组光栅的±1级衍射光，三组光栅中两个大周期光栅用于粗对准，小周期光栅用于精对准，减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差。小周期光栅与大周期光栅空间错位排列，其相应的干涉像在像面上空间分开，有效解决信号的串扰问题，提高了光源的能量利用率，有利于提高对准信号强度和探测的动态范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 设备 对准 系统 标记 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于光刻设备对准系统的对准标记，其特征在于：所述对准标记是划线槽对准标记，包括：第一光栅；第二光栅；和第三光栅；所述第一光栅、第二光栅和第三光栅的周期不同；所述第一光栅、第二光栅和第三光栅的排列不在同一直线上；所述第一光栅、第二光栅和第三光栅的±1级衍射光通过空间滤波分别相干成像在位于像面的参考光栅上。
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