[发明专利]确定性光学加工条件下频段误差分布特性的分析方法无效
| 申请号： | 200810030817.8 | 申请日： | 2008-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN101240998A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;李圣怡;王贵林;杨智;吴冬良;吴宇列;解旭辉 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G01B11/00 |
| 代理公司： | 长沙恒熙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘熙 |
| 地址： | 410073湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种确定性光学加工条件下频段误差分布特性的分析方法：1)采用光学检测装置得到被测光学元件加工后的面形误差数据；2)利用面形误差数据计算出PSD曲线，根据PSD曲线的极大值点确定光学加工误差的敏感频段；3)针对光学加工误差的分布特征，依据相似性原则，选择基本小波；4)利用二维连续小波变换对光学加工误差的敏感频段进行分析，确定其具体分布区域；5)分析光学加工误差敏感频段的分布特性与工艺参数之间的关系，为修正加工提供指导。它对于减小或消除确定性光学加工条件下产生的“碎带”误差，提高光学零件的性能指标具有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 确定性 光学 加工 条件下 频段 误差 分布 特性 分析 方法 | ||
【主权项】：
1、一种确定性光学加工条件下频段误差分布特性的分析方法，其特征在于通过以下步骤完成：1)采用光学检测装置得到被测光学元件加工后的面形误差数据，并消除趋势项和常数项；2)利用面形误差的测量数据计算出PSD曲线，根据PSD曲线的极大值点确定光学加工误差的敏感频段，分析加工过程中面形误差的变化趋势；3)针对光学加工误差的分布特征，依据相似性原则，选择基本小波；4)利用二维连续小波变换对光学加工误差的敏感频段进行分析，确定其具体分布区域；5)通过比较不同工艺条件下的加工结果，分析光学加工误差敏感频段的分布特性与工艺参数之间的关系，为修正加工提供指导。
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