[发明专利]荫罩清洗回收方法有效

专利信息
申请号: 200810020975.5 申请日: 2008-08-11
公开(公告)号: CN101339879A 公开(公告)日: 2009-01-07
发明(设计)人: 杨树明;马育红;陈华明 申请(专利权)人: 南京凯燕电子有限公司
主分类号: H01J9/50 分类号: H01J9/50;H01J9/52;B08B3/08;B08B3/12
代理公司: 南京君陶专利商标代理有限公司 代理人: 沈根水
地址: 210038*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明是荫罩清洗回收方法,其特征是该方法的工艺步骤分为,1)柠檬酸清洗;2)去离子水清洗;3)氢氧化钠溶液清洗;4)去离子水清洗;5)醋酸清洗;6)去离子水清洗;7)氨水清洗;8)吗啡啉清洗;9)高温烘干。本发明的有益效果:提供一种全新的荫罩网清洗方法,可彻底清洗掉荫罩上氧化铋的荫罩清洗回收方法,它通过工艺条件的确定,将荫罩网上的氧化铋彻底去除,使回收荫罩网完全当做部件回到生产线重新使用,从而大大提高荫罩网的回收价值,具有广阔的经济价值和社会价值。本发明用于电子废弃物中荫罩网的清洗回收工艺,具有良好的经济效益和环境效益,广阔的应用前景。
搜索关键词: 清洗 回收 方法
【主权项】:
1、荫罩清洗回收方法,其特征是该方法的工艺步骤分为,1)柠檬酸清洗,将荫罩倾斜、缓慢地放入,防止网面变形,柠檬酸清洗槽内浸泡,该工艺要求:酸液浓度5-7%,酸液温度50-70℃,浸泡时间10-30秒;2)去离子水清洗,将荫罩移到去离子水清洗槽内含有超声波振动,目的是降低荫罩表面酸的浓度以及去除锈迹,该工艺要求:去离子水电阻率≥5MΩ·cm,清洗时间20-40秒,清洗槽内清洗液时使上口溢流,pH值≥4;3)氢氧化钠溶液清洗,将荫罩移到氢氧化钠清洗槽内,使得氧化秘与氢氧化钠发生化学作用,该工艺要求:碱液浓度25-30%,浸泡时间6-10分钟,碱液温度85-105℃;4)去离子水清洗,将荫罩移到去离子水清洗槽内含有超声波振动,目的是降低荫罩表面碱的浓度以及去除氧化铋,该工艺要求:去离子水电阻率≥5MΩ·cm,清洗时间20-40秒,清洗槽内清洗液时使上口溢流,pH值≤9;5)醋酸清洗,将荫罩移到醋酸清洗槽内,鼓泡,目的是进一步中和荫罩表面的残留碱液以及清洗表面斑纹,该工艺要求:醋酸浓度1.4-1.8%,清洗时间10-20秒;6)去离子水清洗,将荫罩移到去离子水清洗槽内(鼓泡),目的是降低荫罩表面醋酸的浓度,该工艺要求:去离子水电阻率≥5MΩ·cm,清洗时间20-40秒,清洗槽内清洗液时使上口溢流,pH值6-7;7)氨水清洗,将荫罩移到氨水清洗槽内,鼓泡,目的是进一步中和荫罩表面残留的醋酸,该工艺要求:氨水浓度0.05-0.09%,清洗时间10-20秒;8)吗啡啉清洗,将荫罩移到吗啡啉清洗槽内,鼓泡,目的是对荫罩表面油化保护,该工艺要求:吗啡啉浓度0.05-0.09%,清洗时间10-20秒,温度55-65℃;9)高温烘干,将荫罩放入烘箱内的烘干架上进行烘干,该工艺要求:烘箱温度120-220℃,烘干时间30-60分钟;待荫罩上面的液体不滴落为止,烘干后取出,
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