[发明专利]铜电解上清液过滤工艺无效
申请号: | 200810015712.5 | 申请日: | 2008-04-24 |
公开(公告)号: | CN101280454A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 张叶新;卢士海;徐全久 | 申请(专利权)人: | 东营方圆有色金属有限公司 |
主分类号: | C25D21/06 | 分类号: | C25D21/06;C25C1/12 |
代理公司: | 山东济南齐鲁科技专利事务所有限公司 | 代理人: | 宋永丽 |
地址: | 257091山东省东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种铜电解上清液过滤工艺,本发明的目的是这样实现的:铜电解上清液过滤工艺,电解液从电解槽经循环管流回低位槽,再用循环泵送至高位槽,电解液由高位槽再自流进电解槽,电解槽底部有阀门,连接上清液管,上清液管与清液贮槽相通,电解液由过滤泵送至压滤机过滤后再返回电解液循环系统高位槽,进入循环系统,将上清液单独进行回收,过滤后再返回电解液循环系统,使电解液中的悬浮物大降低,由原来的20-100mg/L下降到了10mg/L以下,阴极铜质量得到了保证。 | ||
搜索关键词: | 电解 上清液 过滤 工艺 | ||
【主权项】:
1、铜电解上清液过滤工艺,电解液从电解槽经循环管流回低位槽,再用循环泵送至高位槽,电解液由高位槽再自流进电解槽其特征在于,电解槽底部有阀门,连接上清液管,上清液管与清液贮槽相通,由过滤泵送至压滤机过滤后再返回电解液循环系统高位槽,进入循环系统。
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