[发明专利]用多波长来测量表面形状测量方法和使用此方法的装置有效
申请号: | 200810005781.8 | 申请日: | 2008-01-31 |
公开(公告)号: | CN101236067A | 公开(公告)日: | 2008-08-06 |
发明(设计)人: | 北川克一;杉山将;小川英光;铃木一嘉 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东京工业大学;东丽工程株式会社 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/24 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种用多波长来测量表面形状测量方法和使用该方法的装置。通过以对光的行进方向倾斜任意角度的姿势配置基准面,利用从测量对象面和基准面返回同一光路的反射光产生干涉条纹。这时,利用不同的多波长单色光,由摄像装置拍摄各单色光产生的干涉条纹的各像素的强度值。CPU利用求干涉条纹波形的表达式,对每一计算对象像素利用各像素的强度值和处在其邻近的像素的强度值,假设各像素包含的干涉条纹波形的直流分量、交流振幅和相位相等,对每一波长求出各像素的干涉条纹波形的相位候补值群。进而,从多个候补值群求出共同的表面高度。 | ||
搜索关键词: | 波长 测量 表面 形状 测量方法 使用 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种用多波长来测量表面形状的测量方法,通过分支单元对测量对象面和基准面照射单色光,根据因从测量对象面和基准面两者反射并返回同一光路的反射光而产生的干涉条纹的强度值,求出测量对象面的表面高度和表面形状,其特征在于,所述测量方法包含下列过程:第1过程,该第1过程中以对光的行进方向倾斜任意角度的姿势配置所述基准面,将波长不同的多个单色光同时照射到测量对象物和基准面,并取得其产生的干涉条纹的图像;第2过程,该第2过程中对每一单色光求出取得的所述图像中各像素的干涉条纹的强度值;第3过程,该第3过程中利用求干扰条纹波形的表达式,对每一所述像素利用各像素的强度值及其附近的多个像素的强度值,并假设这些像素的干涉条纹波形的直流分量、交流振幅和相位相等,对每一单色光求出各像素的相位;第4过程,该第4过程中根据对每一单色光求出的各像素的相位求出表面高度的候补群,并从各波长的候补群求出共同的高度,作为实际高度;第5过程,该第5过程中根据求出的所述实际高度,求出测量对象物的表面形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立大学法人东京工业大学;东丽工程株式会社,未经国立大学法人东京工业大学;东丽工程株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810005781.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。