[发明专利]偏光膜制造方法及使用该制造方法制造的偏光膜无效

专利信息
申请号: 200810000713.2 申请日: 2008-01-14
公开(公告)号: CN101486268A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 郑孟嘉;陈裕泓;陈宏杰 申请(专利权)人: 达信科技股份有限公司
主分类号: B32B37/02 分类号: B32B37/02;B32B38/18;B32B38/00;B32B23/08;B29C55/02;G02B5/30
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李丙林
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供了一种偏光膜制造方法,步骤包括:以第一张力拉伸第一保护膜;以第二张力拉伸第二保护膜;将第一保护膜及第二保护膜分别贴合于基底膜两侧;以第三张力拉伸第三保护膜;将第三保护膜贴合于第一保护膜的相对于基底膜的另一侧,以形成复合膜;以及以第四张力拉伸复合膜以形成偏光膜。其中,第一张力与第三张力的乘积除以第二张力与第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。本发明还提供了一种使用该偏光膜制造方法制造的偏光膜,包括基底膜、第一保护膜、第二保护膜以及第三保护膜。利用本发明的偏光膜制造方法可以减少偏光膜翘曲的发生。
搜索关键词: 偏光 制造 方法 使用
【主权项】:
1. 一种偏光膜制造方法,包括以下步骤:以第一张力拉伸第一保护膜;以第二张力拉伸第二保护膜;将所述第一保护膜及所述第二保护膜分别贴合于基底膜两侧;以第三张力拉伸第三保护膜;将所述第三保护膜贴合于所述第一保护膜的相对于所述基底膜的另一侧,以形成复合膜;以及以第四张力拉伸所述复合膜以形成所述偏光膜;其中,所述第一张力与所述第三张力的乘积除以所述第二张力与所述第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。
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