[发明专利]硅片边缘的磨角装置无效
| 申请号： | 200810000168.7 | 申请日： | 2008-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN101214625A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 刘国友;邹冰艳;张淮;王政英;黄建伟 | 申请（专利权）人： | 株洲南车时代电气股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/06 | 分类号： | B24B9/06;B24B41/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 412001*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片边缘磨角装置，包括：磨头和磨盘，磨头下表面为圆形平面，并且磨头的内部具有真空管道，真空管道可将硅片吸附在磨头的圆形下表面外层；磨头还包括磁铁层和缓冲层，磁铁层与磨盘产生磁力吸引，使硅片受力均匀；缓冲层使硅片和磨头紧密结合，并且不受磕碰损伤。所述磨盘的上表面具有一个凹曲面，在磨角的工作过程中，磨头吸附住硅片与磨盘的凹曲面接触，磨头和磨盘做相对转动，同时硅片的边缘在磨盘上磨角。本发明避免了传统手工磨角操作过程不精确，容易出现误差，磨出来的台面不均匀的问题，使得操作简单，精确度提高，大大节省了成本，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 边缘 装置 | ||
【主权项】：
1.一种硅片边缘磨角装置，其特征在于包括：磨头和磨盘，所述磨头下表面为圆形平面，并且磨头的内部具有真空管道，所述真空管道纵向贯穿磨头，真空管道可将硅片吸附在磨头的圆形下表面外层；所述磨盘的上表面具有一个凹曲面；在磨角的工作过程中，磨头吸附住硅片与转动的磨盘的凹曲面接触，磨头和磨盘做相对旋转运动，同时硅片的圆周边缘在磨盘上磨角。
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