[发明专利]流优化的阀底座无效
申请号: | 200780101783.0 | 申请日: | 2007-11-27 |
公开(公告)号: | CN101874160A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | F·施努尔;H·施奈德-克尼希;O·扎特罗卡;M·卡富勒 | 申请(专利权)人: | 诺格伦有限责任公司 |
主分类号: | F15B13/08 | 分类号: | F15B13/08;F16K27/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 严志军;谭祐祥 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 一种器件,包括:底座,具有第一端、第二端、顶侧面(310)、左侧面、右侧面以及宽度;形成于底座中的第一通道(324)、第二通道(326)以及第三通道(328),其中,第一通道、第二通道以及第三通道从左侧面延伸穿过至右侧面;形成于第二端中的第一开口(446)和第二开口(448);在底座的顶侧面中形成为一排的第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽、第四凹槽以及第五凹槽(314,316,318,320,322),其中,凹槽的长轴线从右侧面向左侧面延伸,并且,第一凹槽(314)联接到第一通道(324)上,第三凹槽(318)联接到第二通道(326)上,第五凹槽(322)联接到第三通道(328)上;用于平滑地引导流体从第二开口(448)流向第二凹槽(316)的装置;以及用于平滑地引导流体从第一开口(446)流向第四凹槽(320)的装置。 | ||
搜索关键词: | 优化 底座 | ||
【主权项】:
一种装置,包括:底座(204),具有第一端(344)、第二端、顶侧面(310)、左侧面、右侧面以及宽度(W);形成于所述底座(204)中的第一通道、第二通道以及第三通道(324,326,328),其中,所述第一通道、所述第二通道以及所述第三通道从所述左侧面延伸穿过至所述右侧面(312);形成于所述第二端中的第一开口(446)和第二开口(448);在所述底座(204)的顶侧面(310)中形成为一排的第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽、第四凹槽以及第五凹槽(314,316,318,320,322),其中,所述凹槽的长轴线从所述右侧面向所述左侧面延伸,并且,所述第一凹槽联接到所述第一通道上,所述第三凹槽联接到所述第二通道上,所述第五凹槽联接到所述第三通道上;形成于所述底座中的第四通道(450),具有第一长度,该第四通道将所述第二开口与所述第二凹槽联接,其中,所述第四通道在所述第二凹槽的附近具有第一横截面形状,并在所述第二开口的附近具有第二横截面形状,并且,所述第四通道沿着所述第一长度而从所述第一横截面形状平滑地变化至所述第二横截面形状;以及形成于所述底座中的第五通道(452),具有第二长度,该第五通道将所述第一开口与所述第四凹槽联接。
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