[发明专利]质量分析方法及质量分析系统有效
申请号: | 200780101761.4 | 申请日: | 2007-12-13 |
公开(公告)号: | CN101883983A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | 西口克;梶原茂树 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;H01J49/40 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供质量分析方法及质量分析系统。其进行在旋转轨道不旋转的非超越模式下的测定,取得质量不同的离子的超越不存在的飞行时间谱(S1、S2)。根据该飞行时间谱中所出现的峰之飞行时间等信息(S3),预测在旋转模式下的旋转数和飞行时间,并基于该预测,在旋转模式下的飞行时间谱上设定:具有考虑了上述峰的时间宽度的扩展之时间宽度的段。一个段内为相同的旋转数,由此若多个段不重叠,则各峰的旋转数和质量可唯一地决定。于是,对在规定条件假定的旋转模式下的飞行时间谱上所设定的段之重叠进行判断,且找到不发生重叠的条件,从而将段加以确定(S4~6)。由此,也能决定从旋转轨道使离子射出的射出开关的切换定时,因而基于此执行旋转模式的测定(S7)。 | ||
搜索关键词: | 质量 分析 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种质量分析方法,其是使来自试料的离子沿旋转轨道反复飞行并在规定的时刻以后使离子从旋转轨道脱离而由检测器进行检测的多重旋转飞行时间型的、且利用离子光学系统的质量分析方法,其特征在于,包括:a)非超越模式执行步骤,在非超越模式下执行目的试料的质量分析来取得飞行时间谱,该非超越模式是在所述旋转轨道上使离子不旋转或旋转时按可保证没有离子的追尾、超越发生之旋转数使离子飞行的模式;b)峰信息收集步骤,收集在所述非超越模式下的飞行时间谱中所出现的峰的信息;c)定时决定步骤,基于所收集的峰信息,预测与在沿所述周期轨道使离子旋转的旋转模式下执行了目的试料的质量分析时所观测的峰相对应的旋转数及飞行时间,按照在基于该预测的飞行时间谱上至少与目标离子相对应的峰可分离的方式,决定从所述旋转轨道使离子脱离开始的定时。
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