[发明专利]定影构件、其制造方法以及使用其的定影设备和电子照相图像形成设备有效
申请号: | 200780047531.4 | 申请日: | 2007-12-10 |
公开(公告)号: | CN101568886A | 公开(公告)日: | 2009-10-28 |
发明(设计)人: | 北野祐二;五月女修 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/20 | 分类号: | G03G15/20;B32B25/16;B32B27/00;C08J7/00;C08J7/04;F16C13/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;闫俊萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了具有表面层的定影构件,所述表面层包括具有醚键的氟橡胶和具有聚醚结构的聚硅氧烷。所述定影构件在表面层和基材之间的粘合性优良。具体地,公开了具有基材、粘合层以及与所述粘合层接触设置的表面层的定影构件。所述定影构件的特征在于,所述表面层包含具有醚键的氟橡胶和具有聚醚结构的聚硅氧烷,所述粘合层包含聚有机硅氧烷树脂,在所述粘合层中键合至氧的碳相对于键合至氧的硅的比为不小于1.0但不大于20.0。 | ||
搜索关键词: | 定影 构件 制造 方法 以及 使用 设备 电子 照相 图像 形成 | ||
【主权项】:
1.一种定影构件,其包含基材、粘合层和与所述粘合层接触设置的表面层,其中所述表面层包括具有醚键的氟橡胶和具有聚醚结构的聚硅氧烷,以及其中所述粘合层包含聚有机硅氧烷树脂,在所述粘合层中与氧结合的碳和与氧结合的硅的存在比为1.0以上至20.0以下。
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