[发明专利]流体处理系统有效
| 申请号： | 200780041203.3 | 申请日： | 2007-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN101568492A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 马利政;乔治·特劳本贝格;道格拉斯·彭黑尔 | 申请（专利权）人： | 特洛伊科技有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;A61L2/08;A61L2/10;C02F1/30 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 傅强国 |
| 地址： | 加拿大*** | 国省代码： | 加拿大;CA |
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| 摘要： | 在本发明的一个方面中，本发明涉及一种流体处理系统，包括：入口；出口；布置在入口和出口之间的流体处理区，该流体处理区：(i)包括第一壁表面和与所述第一壁表面相对的第二壁，并且(ii)具有布置于其中的至少一个阵列的多行辐射源组合件；每个辐射源组合件具有横截流体流通过所述流体处理区的方向的纵向轴；所述第一壁表面和所述第二壁表面中的每一个包括第一流体导流器元件和第二流体导流器元件，所述第一流体导流器元件突入所述流体处理区的程度比所述第二流体导流器元件大。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 处理 系统 | ||
【主权项】：
1.一种流体处理系统，其特征在于，包括：入口；出口；布置在所述入口和出口之间的流体处理区，该流体处理区：(i)包括第一壁表面和与所述第一壁表面相对的第二壁表面，并且(ii)具有布置于该流体处理区内的至少一个阵列的多行辐射源组件；每个辐射源组件具有纵向轴，该纵向轴横过流体流过所述流体处理区的方向；所述第一壁表面和所述第二壁表面中的每一个均包括第一流体导流器元件和第二流体导流器元件，所述第一流体导流器元件突入所述流体处理区的程度比所述第二流体导流器元件大。
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