[发明专利]疏水性修饰的聚胺污垢抑制剂

摘要

用于处理工业加工流体中的污垢(scale)的疏水性修饰的含Si聚胺。优选的疏水性修饰的含Si聚胺在对难以处理的工业加工流体，例如Bayer氧化铝加工流体、核废物流体和牛皮纸磨坊流出流体中的铝硅酸盐污垢进行处理时特别有用。

主权项

1.包含式(I)的重复单元和式(II)的重复单元的聚合物：其中：T和E分别独立地为第一可选地取代的包含约2至约40个碳的烃基；Q为H或第二可选地取代的包含约1至约20个碳的烃基；A¹和A²分别独立地为直接的键或包含约1至约20个碳的有机连接基团；R”＝H，可选地取代的C₁-C₂₀烷基，可选地取代的C₆-C₁₂芳基，可选地取代的C₇-C₂₀芳烷基，可选地取代的C₂-C₂₀烯基，I族金属离子，II族金属离子，或NR¹₄，其中每个R¹独立地选自H，可选地取代的C₁-C₂₀烷基，可选地取代的C₆-C₁₂芳基，可选地取代的C₇-C₂₀芳烷基，和可选地取代的C₂-C₂₀烯基；以及该聚合物具有至少约500的平均分子量；第一个条件是当A²-Q为H时，T和E中至少一个包含4个或更多的碳原子；第二个条件是当A²-Q不是H时，T和E中至少一个包含2个或更多的碳原子；第三个条件是Q不包含Si(O R”)₃基团；第四个条件是A²不是未取代的-C(＝O)-烷基；且第五个条件是当Q为OH或NH₂时，A¹和A²不同时为亚烷基。