[发明专利]以封闭异氰酸酯为基础的体系的光潜碱有效
| 申请号: | 200780036245.8 | 申请日: | 2007-09-19 |
| 公开(公告)号: | CN101522745A | 公开(公告)日: | 2009-09-02 |
| 发明(设计)人: | K·斯图德;K·迪特利克;T·琼 | 申请(专利权)人: | 西巴控股有限公司 |
| 主分类号: | C08G18/67 | 分类号: | C08G18/67 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 韦欣华;李炳爱 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及包括以下组分的组合物:(a)光潜碱;(b)封闭异氰酸酯或封闭异硫氰酸酯和(c)氢给体化合物;和它的应用。 | ||
| 搜索关键词: | 封闭 氰酸 基础 体系 光潜碱 | ||
【主权项】:
1. 一种组合物,它包括(a)光潜碱;(b)封闭异氰酸酯或封闭异硫氰酸酯和(c)氢给体化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西巴控股有限公司,未经西巴控股有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780036245.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。





