[发明专利]均孔膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200780034695.3 申请日: 2007-07-31
公开(公告)号: CN101516481A 公开(公告)日: 2009-08-26
发明(设计)人: 克劳斯-维克托·派内曼;沃尔克·阿贝茨;彼得·F·W·西蒙;格里塔·约翰森 申请(专利权)人: GKSS-盖斯特哈赫特研究中心有限责任公司
主分类号: B01D67/00 分类号: B01D67/00;C08J5/22;C09J9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 吴亦华;蔡胜有
地址: 德国盖斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于制备膜,特别是聚合物膜,优选超滤膜或纳滤膜的方法,以及通过该方法制备的膜和这种膜用于超滤或纳滤的用途。根据本发明,按照下列步骤制备所述膜:将一种或更多种聚合物溶解在包含一种或更多种溶剂的浇铸溶液或者含有至少一种溶剂和至少一种非溶剂的浇铸溶液中,所述聚合物中的至少一种是嵌段共聚物,将其中溶解有所述一种或更多种聚合物的浇铸溶液铺展开以形成薄膜,将所述薄膜浸入包含嵌段共聚物的至少一种非溶剂的沉淀浴中,使得所述薄膜沉淀或产生出来以形成膜。
搜索关键词: 均孔膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种用于制备膜,特别是聚合物膜,优选超滤膜或纳滤膜的方法,所述方法包括下列步骤:-将一种或更多种聚合物溶解在包含一种或更多种溶剂的浇铸溶液或含有至少一种溶剂和至少一种非溶剂的浇铸溶液中,所述聚合物中的至少一种是嵌段共聚物,-将其中溶解有所述一种或更多种聚合物的所述浇铸溶液铺展开以形成薄膜,和-将所述薄膜浸入包含所述嵌段共聚物的至少一种非溶剂的沉淀浴中,使得所述薄膜沉淀或产生出来以形成膜。
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