[发明专利]用于提纯低级硅材料的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200780033182.0 申请日: 2007-09-13
公开(公告)号: CN101511731A 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 多米尼克·勒布朗;勒内·布瓦韦尔 申请(专利权)人: 希利贝坎库公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037;C01B33/02;C01B33/12;C30B29/06;F27B7/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 王 旭
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种用于提纯低纯度硅材料并且获得较高纯度硅材料的方法和装置。所述方法包括:提供配备有氧气-燃料燃烧器的熔融装置,并且使所述低纯度硅材料在所述熔融装置中熔融,以获得较高纯度硅材料的熔体。所述熔融装置可以包括转鼓炉,并且所述低纯度硅材料的所述熔融可以在1410℃至1700℃的范围内的温度下,在氧化或还原气氛下进行。可以在熔融过程中将合成炉渣加入到熔融的材料中。所述较高纯度硅材料的熔体可以通过倾注到模中与炉渣分离,所述模具有开口顶部以及绝热底壁和侧壁。一旦在所述模中,所述较高纯度硅材料的熔体就可以经历受控的单向凝固,以获得更高纯度的固体多晶硅。
搜索关键词: 用于 提纯 低级 材料 方法 装置
【主权项】:
1. 一种用于提纯低纯度硅材料并且获得较高纯度硅材料的方法,所述方法包括以下步骤:(a)提供配备有氧气-燃料燃烧器的熔融装置;和(b)使所述低纯度硅材料在所述熔融装置中熔融,并且获得较高纯度硅材料的熔体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希利贝坎库公司,未经希利贝坎库公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780033182.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top