[发明专利]用于光学特征化基片掺杂的方法和设备无效
| 申请号： | 200780029809.5 | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN101501475A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 弗兰克·托瑞格罗萨;劳兰特·洛克斯 | 申请（专利权）人： | 离子射线服务公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;H01L21/66 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 蒋世迅 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学特征化方法，该方法包括步骤，借助于来自光源的反射光束，评估基片(SUB)的掺杂，这种方法是利用一种设备实施的，该设备包括：光源(LAS)，用于产生沿入射轴的入射光束(I)；第一检测器(DET1)，用于测量沿反射轴的这个反射光束(R)的功率，入射轴和反射轴相交在测量点上并形成非零测量角(2θ)；和放置在入射光束(I)路径上的偏振器(POL)。此外，该光源(LAS)是单色的。本发明还涉及配备这种设备的离子注入装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 特征 化基片 掺杂 方法 设备 | ||
【主权项】：
1. 一种光学特征化方法，包括步骤：利用从光源发射出的反射光束，评估基片(SUB)的掺杂，所述方法是利用设备实施的，该设备包括：所述光源(LAS)，沿入射轴产生入射光束(I)；第一检测器(DET1，DET2)，用于测量沿反射轴的所述反射光束(R)的功率；所述入射轴和反射轴相交在测量点上，并形成非零的测量角(2θ)；和偏振器(POL)，设置在入射光束(I)的路径上；其特征在于，所述光源(LAS)是单色的。
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