[发明专利]光学检验无效
| 申请号： | 200780029065.7 | 申请日： | 2007-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN101501474A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | D·J·沃利斯 | 申请（专利权）人： | 秦内蒂克有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢 江;王小衡 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本发明涉及到确定在诸如半导体晶片、光学薄膜、显示屏等衬底中的缺陷的物理特性以及标识与定位这些缺陷的方法。所述方法包括使用PC扫描仪对衬底成像。特别是在以透射方式成像过程中所使用的PC扫描仪能提供关于要确定的衬底体积的信息。该方法通过使用干涉测量技术来确定诸如：层厚、曲率、光学常数，以及通过使用偏振成像确定双折射和张力。这些方法还涉及到在衬底激励荧光，例如光致发光和电致发光，以及对受激衬底进行扫描实现荧光测绘。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 检验 | ||
【主权项】：
1. 一种检验衬底的方法，该方法包括使用具有底片影像扫描能力的PC扫描仪对衬底进行扫描以记录透过衬底透射的光线强度的步骤。
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