[发明专利]用来形成纳米结构单层的方法和器件，以及包括该单层的器件

摘要

提供了一种用来形成纳米结构阵列或对其进行图案化的方法。所述方法包括在包含纳米结构缔合基团的涂层上形成阵列，在旋涂电介质中形成阵列，沉积纳米结构之后进行溶剂退火，使用光刻胶进行图案化，以及/或者使用促进阵列形成的器件。还提供了用来形成纳米结构阵列的相关的器件，其为包括纳米结构阵列的器件(例如存储器件)。还提供了保护纳米结构，使其免于在高温处理过程中熔合的方法。

主权项

1. 一种用来对纳米结构单层进行图案化的方法，该方法包括：a)将光刻胶和嵌入光刻胶中的纳米结构的单层施加在第一层上，以提供光刻胶层；b)对光刻胶层以预定的图案曝光，以提供在光刻胶层至少一个第一区内的曝光的光刻胶，以及在光刻胶层至少一个第二区的未曝光的光刻胶；c)从第一层除去未曝光的光刻胶及其嵌入的纳米结构，同时不除去所述曝光的光刻胶及其嵌入的纳米结构，从而使得第一区限定的至少一个纳米结构单层阵列保留在第一层上；d)在步骤c)之后，对第一层，曝光的光刻胶及其嵌入的纳米结构施加至少约300℃的温度。