[发明专利]光学成像系统和方法有效
| 申请号： | 200780025580.8 | 申请日： | 2007-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN101484067A | 公开（公告）日： | 2009-07-15 |
| 发明（设计）人： | T·尼尔森;T·克勒 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王 英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于确定向对象(2)、尤其是混浊介质所施加的荧光造影剂的浓度相关量的设备。所述设备通常包括用于以激发波长辐照对象(2)的电磁辐射源(4)和至少一个用于探测由造影剂以荧光波长发射的荧光电磁辐射的第一探测装置(6、7.1、7.2、…、8)，所述第一探测装置产生荧光强度数据(F)。所提出的设备还包括至少一个用于探测激发波长下的通过对象(2)透射的电磁辐射的第二探测装置(6、7.1、7.2、…)，所述第二探测装置产生透射强度数据(T)，所述设备还包括评估装置(10)，其适于接收透射强度数据和荧光强度数据以及根据荧光强度数据与透射强度数据的比率(R)确定造影剂的所述浓度相关量。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于确定向对象(2)、尤其是混浊介质所施加的荧光造影剂的浓度相关量的设备，所述设备包括：—电磁辐射源(4)，其用于以激发波长辐照所述对象(2)；—至少一个第一探测装置(6、7.1、7.2、...、8)，其用于探测由所述造影剂以荧光波长发射的荧光电磁辐射，所述第一探测装置产生荧光强度数据(F)；其特征在于，至少一个第二探测装置(6、7.1、7.2、...)，其用于探测所述激发波长下的通过所述对象(2)透射的电磁辐射，所述第二探测装置产生透射强度数据(T)，所述设备还包括评估装置(10)，所述评估装置适于接收所述透射强度数据和所述荧光强度数据，并且适于根据荧光强度数据与透射强度数据的比率(R)而确定所述造影剂的所述浓度相关量。
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