[发明专利]稳定的光伏器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200780023575.3 申请日: 2007-05-08
公开(公告)号: CN101484998A 公开(公告)日: 2009-07-15
发明(设计)人: S·古哈;杨驰;严宝杰;岳国震 申请(专利权)人: 联合太阳能奥佛有限责任公司
主分类号: H01L31/00 分类号: H01L31/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 屠长存
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种p-i-n结构的半导体器件包括:由p掺杂的半导体材料构成的p层;由n掺杂的半导体材料构成的n层;以及插入其间的由基本本征的纳米晶半导体材料构成的i层。所述i层中的结晶体积从其与所述n层的分界面到其与所述p层的分界面随着该层的厚度的增加而降低。所述基本本征的纳米晶半导体材料的晶体尺寸也可以从其与所述n层的分界面到其与所述p层的分界面随着所述i层的厚度的增加而降低。在所述i层和所述p层的分界面处开始的且包括不大于其厚度的50%的那部分所述i层中的中程有序的区域的体积,大于在其余的所述i层中的中程有序的区域的体积。这种类型的器件可以用作光伏器件,并可以通过等离子淀积工艺制备。
搜索关键词: 稳定 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1. 一种光伏器件,其具有增强的抗光致退化性,所述器件包括:p层,其由p掺杂的半导体材料构成;n层,其由n掺杂的半导体材料构成;以及i层,其由插入在所述p层和所述n层之间的基本本征的纳米晶半导体材料构成;其中所述i层中的结晶体积从其与所述n层的分界面到其与所述p层的分界面随着该层的厚度的增加而降低。
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