[发明专利]记录介质，以及用于管理记录介质的方法和装置无效
| 申请号： | 200780021513.9 | 申请日： | 2007-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN101467208A | 公开（公告）日： | 2009-06-24 |
| 发明（设计）人： | 金城埙;朴容徹 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/007 | 分类号： | G11B7/007;G11B20/12 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 夏 凯;谢丽娜 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 披露了一种记录介质，以及一种用于管理该记录介质的方法和装置。根据本发明一个方面的一种用于管理包括多个记录层的记录介质的方法包括：检测记录介质的第一记录层的第一区域上的缺陷；在记录介质的管理区中记录用于第一区域的第一缺陷管理信息；并且，在管理区中记录用于第二记录层的第二区域的第二缺陷管理信息，其中所述第二区域处于物理地对应于第一区域位置的位置。根据本发明另一方面的一种用于管理记录介质的方法，包括：在包含在记录介质的管理区中的至少一个缺陷列表位置中记录缺陷列表，所述缺陷列表包括用于记录介质的缺陷区的管理信息；以及记录指示缺陷列表位置的记录状态的状态信息。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 以及 用于 管理 方法 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种用于管理包括多个记录层的记录介质的方法，包括：检测所述记录介质的第一记录层的第一区域上的缺陷；在所述记录介质的管理区中记录用于所述第一区域的第一缺陷管理信息；以及在所述管理区中记录用于第二记录层的第二区域的第二缺陷管理信息，其中所述第二区域处于物理地对应于第一区域位置的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG电子株式会社，未经LG电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780021513.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
