[发明专利]氧化稳定的化学机械抛光组合物及方法有效
| 申请号： | 200780016565.7 | 申请日： | 2007-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN101437912A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·格鲁姆拜恩;周仁杰;陈湛;菲利普·卡特 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋 莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含氨基化合物、形成自由基的氧化剂、能抑制该氨基化合物的自由基诱导氧化的自由基捕集剂、及为此的含水载体。该自由基捕集剂为经羟基取代的多元不饱和环状化合物、含氮化合物、或其组合。任选地，该组合物包含金属氧化物研磨剂(例如，二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、二氧化铈、氧化锆、或前述研磨剂中的两种或多种的组合)。本发明进一步提供一种用CMP组合物化学机械抛光基板的方法，以及一种提高含有胺及形成自由基的氧化剂的CMP组合物的保存期的方法，其中将自由基捕集剂加至该CMP组合物中。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 稳定 化学 机械抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种化学机械抛光(CMP)组合物，其包含：(a)氨基化合物；(b)形成自由基的氧化剂；(c)自由基捕集剂，其能抑制该氨基化合物的自由基诱导的氧化，该自由基捕集剂包含经羟基取代的多元不饱和环状化合物、含氮化合物、或其组合；及(d)为此的含水载体。
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