[发明专利]光学记录介质无效
申请号: | 200780009312.7 | 申请日: | 2007-03-14 |
公开(公告)号: | CN101405145A | 公开(公告)日: | 2009-04-08 |
发明(设计)人: | 中村有希;林昌弘;水上智;八代彻 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光;协和发酵化学有限公司 |
主分类号: | B41M5/26 | 分类号: | B41M5/26;G11B7/24;G11B7/244;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/258 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋 莉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种光学记录介质,包括第一信息记录层和第二信息记录层两层,第一信息记录层和第二信息记录层通过中间层层压,其中通过从第一信息记录层侧照射的激光作用,在所述两层进行记录和再现,第二信息记录层包括在基底上的光反射层、染料记录层和无机保护层,并且该基底包括在其表面上的摆动凸出部分,该无机保护层具有3nm到40nm的厚度,该染料记录层包括由通式(I)表示的花青化合物和由通式(II)表示的斯夸鎓化合物:见右上通式(I)见右上通式(II) | ||
搜索关键词: | 光学 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种光学记录介质,包括第一信息记录层和第二信息记录层两层;该第一信息记录层和第二信息记录层通过中间层层压,-其中通过从第一信息记录层侧照射的激光作用,在所述两层进行记录和再现,该第二信息记录层包括在基底上的光反射层、染料记录层和无机保护层,该基底包括在其表面上的摆动凸出部分,该无机保护层具有3nm到40nm的厚度,该染料记录层包括由通式(I)表示的花青化合物和由通式(II)表示的斯夸鎓化合物;
通式(I)其中,环A和环B均为可以具有取代基的苯环或萘环;在R1到R4中,相邻的两基团R1和R2、R2和R4、或R3和R4是苄基,或所有R1到R4均为苄基,并且除了苄基以外的基团R1到R4均为碳数为1到4的烷基,或彼此相连形成三元到六元环;Y1和Y2均独立为碳数为1到30的有机基团;Anm-表示价态为“m”的阴离子,并且“m”是1或2的整数,“p”是中性电荷因子;
通式(II)其中,R5表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳烷基、或可以具有取代基的芳基;R6表示卤素原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳烷基、可以具有取代基的芳基、硝基、氰基、或可以具有取代基的烷氧基;“s”表示0到4的整数,当“s”表示2到4的整数时,各个R6可以彼此相同或不同,并且相邻的两R6可以与相邻的两个碳原子结合形成可以具有取代基的芳环;R7和R8均为独立选自可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳烷基、可以具有取代基的芳基、和可以具有取代基的杂环基中的基团;R9和R10均为独立选自可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳烷基、和可以具有取代基的芳基中的基团,R9和R10可以彼此结合形成脂环族烃环或杂环;Q表示能配位的金属原子;“t”是2或3的整数。
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