[发明专利]用于微光刻投影曝光设备的照射系统的光学积分器有效
| 申请号： | 200780005771.8 | 申请日： | 2007-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN101384967A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | O·伍尔夫;H·西克曼;E·卡尔切布莱纳;S·雷南;J·旺格勒;A·布雷桑;M·格哈德;N·哈弗坎普;A·舍尔茨;R·沙恩韦伯尔;M·莱;S·布尔卡特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于 静 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种光学积分器，其用于在微光刻投影曝光设备的照射系统中产生多个二次光源，包括第一阵列的长的凸面弯曲的第一微透镜(112X)，所述微透镜并排地设置在第一平面中并且具有第一顶线(V)。所述光学积分器还包括第二阵列的长的凸面弯曲的第二微透镜(114X；214X)，所述微透镜并排地设置在第二平面中并且具有第二顶线(V1到V4)。其中在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶线或者其部分与第一顶线(V)的任意一个或者其部分不重合。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 微光 投影 曝光 设备 照射 系统 光学 积分器 | ||
【主权项】：
1. 一种光学积分器，其用于在微光刻投影曝光设备的照射系统中产生多个二次光源，包括:a)第一阵列的长的凸面弯曲的第一微透镜(112X)，所述第一微透镜并排地设置在第一平面中并且具有第一顶线(V)，b)第二阵列的长的凸面弯曲的第二微透镜(114X；214X)，所述第二微透镜并排地设置在第二平面中并且具有第二顶线(V1到V4)，其中在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶线或者其部分与第一顶线(V)的任意一个或者其部分不重合。
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