[发明专利]投影光学系统、曝光装置、曝光方法、显示器的制造方法、光罩以及光罩的制造方法

摘要

本发明的曝光装置可一边使第1物体M及第2物体P沿着扫描方向而移动，且一边于第2物体上进行投影曝光，该曝光装置包括第1投影光学系统PL10与第2投影光学系统PL11，并且包括第1平台MST；第1投影光学系统PL10在上述第2物体上的部分区域即第1区域上形成上述第1物体上的一部分的放大像；第2投影光学系统PL11在上述第2物体上的不同于上述一部分的区域的第2区域上形成上述第1物体上的不同于上述一部分的部分的放大像；上述第1平台MST保持上述第1物体，并且使上述第1物体的上述一部分及上述不同部分中的至少一方能够沿着上述非扫描方向而移动；上述第1区域及上述第2区域沿着与上述扫描方向相交的非扫描方向以特定的间隔而排列着。

主权项

1. 一种曝光装置，可一边使第1物体及第2物体沿着扫描方向而移动，且一边于上述第2物体上进行投影曝光，该曝光装置的特征在于，包括:第1投影光学系统，在上述第2物体上的部分区域即第1区域上形成上述第1物体上的一部分的放大像；第2投影光学系统，在上述第2物体上的不同于上述部分区域的第2区域上形成上述第1物体上的不同于上述一部分的部分的放大像；以及第1平台，保持上述第1物体，并且使上述第1物体的上述一部分及上述不同部分中的至少一方能够沿着上述非扫描方向而移动；上述第1区域与上述第2区域沿着与上述扫描方向相交的非扫描方向以特定间隔而排列着。